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반도체 CNC 가공은 전문 프로세스 칩 제조 산업을 위한 초정밀 부품을 만드는 데 도움이 될 수 있습니다. At 아이스타 머시닝는 첨단 컴퓨터 제어 기계를 사용하여 반도체 제조 장비에 필요한 핵심 부품을 제작합니다.
이러한 부분은 다음을 충족해야 합니다. 매우 엄격한 허용 오차 로 만들어지고 특수 재료 민감한 칩 제조 공정을 오염시키지 않습니다. 우리의 연구는 휴대폰과 컴퓨터와 같은 일상적인 기기에 전력을 공급하는 마이크로프로세서, 메모리 칩, 센서를 만드는 데 도움이 됩니다.
다음 파일 형식의 업로드를 지원합니다: .step .stp .sldprt .stl .ipt .3mf .3dxml .prt .sat .dxf .x_t .x_b .jt .catpart
업계에서 아이스타 머시닝의 연혁
아이스타 머시닝의 공장 규모
당사의 CNC 장비 수
아이스타의 숙련된 기계공/운영자 수
우리의 정밀 CNC 가공 반도체 애플리케이션을 위한 서비스를 제공합니다:
재료 유형 | 일반적인 용도 | 특수 속성 |
실리콘 및 게르마늄 | 웨이퍼 캐리어, 테스트 픽스처 | 반도체급 순도, 내구성 |
세라믹(AlN, Al₂O₃) | 플라즈마 챔버, 가스 주입기 | 고온 저항성, 비전도성 |
스테인리스 스틸 316L | 진공 부품, 플랜지 | 매우 깨끗한 비자기성 옵션 |
고순도 플라스틱 | 화학물질 전달, 웨이퍼 핸들러 | 무입자, 내화학성 |
특수 합금 | RF 부품, 열 부품 | 낮은 열팽창, 높은 전도성 |
우리의 CNC 가공 서비스 는 많은 중요한 반도체 부품을 만듭니다:
반도체 제조 분야에서는 아주 작은 먼지 칩 웨이퍼 전체를 망칠 수 있습니다. 그렇기 때문에 정밀도는 중요할 뿐만 아니라 절대적으로 필요합니다.
우리의 5축 가공 기능을 사용하여 복잡한 모양을 만들 수 있습니다. 완벽한 정확도. 플라즈마 에칭 챔버용 부품을 제작할 때는 사람 머리카락 굵기의 약 1/50에 해당하는 ±0.001mm의 공차를 달성해야 합니다! 이러한 엄격한 허용 오차가 보장합니다:
에서 아이스타 머시닝여러 첨단 공정을 사용하여 반도체 부품을 제작합니다:
당사의 5축 기계는 단일 설정으로 복잡한 3D 형상을 만들 수 있으며 전체적으로 엄격한 공차를 유지합니다. 다음과 같은 제작에 적합합니다. 정전기 척 구성 요소 아래에 복잡한 냉각 채널이 있는 완벽하게 평평한 표면이 필요합니다.
단단한 재료를 매우 정밀하게 절단하려면 다음을 사용합니다. EDM 가공 (방전 가공). 이 공정은 텅스텐과 같은 재료를 0.0001인치까지 정확하게 절단할 수 있습니다.
우리의 CNC 터닝 서비스는 진공 시스템과 가스 전달 부품에 사용되는 완벽한 원통형 부품을 제작합니다.
부품에 완벽한 평탄도가 필요한 경우, 당사의 표면 연마 서비스 는 전체 부품에 걸쳐 0.0001인치 미만의 표면 변화를 구현할 수 있습니다.
우리가 만드는 모든 반도체 부품은 엄격한 품질 검사:
당사의 반도체 CNC 가공 작업은 제작에 도움이 됩니다:
매개변수 | 일반적인 사양 | 당사의 역량 |
허용 오차 | ±0.001mm(0.00004″) | 정밀 장비로 달성 |
표면 마감 | Ra <0.2μm | 거울과 같은 마감 표준 |
클린룸 표준 | ISO 클래스 7 | 전용 청정 제조 공간 |
재료 순도 | 반도체 등급 | 인증된 자료 출처 |
리드 타임(프로토타입) | 5-15일 | 퀵턴 옵션 사용 가능 |
함께 작업하는 경우 아이스타 머시닝 반도체 부품의 경우
한 선도적인 반도체 장비 제조업체는 새로운 에칭 시스템을 위한 맞춤형 가스 분배판이 필요했습니다. 이렇게 복잡한 부품이 필요했습니다:
우리 팀은 다음을 사용했습니다. CNC 밀링 를 사용하여 기본 모양을 만들고, 정밀한 홀 패턴을 위해 EDM을 사용했으며, 플라즈마 내성 마감을 위해 전문 코팅 파트너와 협력했습니다. 최종 부품은 제시간에 납품되었고 고객의 시스템에서 완벽하게 작동했습니다.
반도체는 당사의 전문 분야이지만, 정밀 가공 능력은 다양한 첨단 기술 분야에도 적용됩니다:
반도체 부품 요구 사항에 대해 논의할 준비가 되셨나요? 문의 아이스타 머시닝 오늘:
진공 애플리케이션의 경우 일반적으로 316L 스테인리스 스틸, 알루미늄 6061-T6 또는 고진공 환경에 적합하도록 적절히 세척 및 준비된 Kovar와 같은 특수 합금을 권장합니다.
당사의 반도체 부품은 ISO 클래스 7 클린룸 환경에서 처리되며 모든 흔적의 가공유, 입자 및 오염 물질을 제거하기 위해 특수 세척 단계를 거칩니다.
예, 알루미나 세라믹과 같은 내구성 있는 소재로 기본 부품을 가공하거나 혹독한 플라즈마 환경을 견디는 산화 이트륨(Y₂O₃)과 같은 특수 코팅을 적용할 수 있습니다.
프로토타입 부품은 복잡도에 따라 5~15일 내에 준비할 수 있습니다. 생산에는 일반적으로 2~4주가 소요되지만 필요한 경우 신속한 서비스를 제공합니다.
예, 모든 반도체 부품에 대한 전체 재료 인증 및 추적성 문서를 제공합니다.